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2021-930
X射線機(jī)操作方法1、在開(kāi)啟X射線機(jī)的電源之前，應(yīng)檢查X射線機(jī)與操作臺(tái)的連接是否良好，電源插頭是否可靠、安全。2、插上電源插頭，開(kāi)啟操作臺(tái)上電源開(kāi)關(guān)，預(yù)熱燈絲5分鐘。3、檢查曝光安全示警范圍內(nèi)是否有人停留，防護(hù)措施是否落實(shí)。一切均安全后方可開(kāi)啟高壓開(kāi)關(guān)。4、X射線機(jī)在正常操作中，操作人員密切注意操作臺(tái)指示燈的變化，不得擅自離開(kāi)，一旦發(fā)現(xiàn)異常情況(如理學(xué)機(jī)器電壓指示燈指示的電壓范圍是否在射線機(jī)工作范圍，射線機(jī)器電腦顯示是否正常，有如錯(cuò)誤報(bào)警和各種燈光閃動(dòng)現(xiàn)象等)，發(fā)現(xiàn)異常應(yīng)立即關(guān)...
查看更多2021-928
計(jì)量CT作為新型X射線真三維成像技術(shù)，一次獲得物體表面及內(nèi)部的真三維模型，具有成像效率高、空間分辨率高且各向同性的優(yōu)點(diǎn)，為裝備制造、工業(yè)無(wú)損檢測(cè)提供理想的數(shù)據(jù)源。工業(yè)CT在工業(yè)方面特別是在無(wú)損檢測(cè)（NDT）與無(wú)損評(píng)價(jià)（NDE）領(lǐng)域更加顯示出其*之處。因此，國(guó)際無(wú)損檢測(cè)界把工業(yè)CT檢測(cè)稱為最佳的無(wú)損檢測(cè)手段。進(jìn)入21世紀(jì)CT更是得到了進(jìn)一步發(fā)展已成為一種重要無(wú)損傷檢測(cè)技術(shù)?？傊I(yè)CT檢測(cè)有著良好的發(fā)展前景。計(jì)量CT的其他優(yōu)勢(shì)：1、射線源能量高：對(duì)于工業(yè)CT系統(tǒng)，常用恒電勢(shì)X...
查看更多2021-927
隨著制造業(yè)的迅速發(fā)展，對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量檢驗(yàn)的要求越來(lái)越高，需要對(duì)越來(lái)越多的關(guān)鍵、復(fù)雜零部件甚至產(chǎn)品內(nèi)部缺陷進(jìn)行嚴(yán)格探傷和內(nèi)部結(jié)構(gòu)尺寸測(cè)量,作為先進(jìn)無(wú)損檢測(cè)方法的工業(yè)CT技術(shù)也隨著被開(kāi)發(fā)并應(yīng)用于這些領(lǐng)域。工業(yè)CT（ICT）就是計(jì)算機(jī)層析照相或稱工業(yè)計(jì)算機(jī)斷層掃描成象。雖然層析成象有關(guān)理論的有關(guān)數(shù)學(xué)理論早在1917年由J.Radon提出，但只是在計(jì)算機(jī)出現(xiàn)后并與放射學(xué)科結(jié)合后才成為一門新的成象技術(shù)。在工業(yè)方面特別是在無(wú)損檢測(cè)（NDT）與無(wú)損評(píng)價(jià)（NDE）領(lǐng)域更加顯示出其*之處。工業(yè)CT...
查看更多2021-923
工業(yè)CT常用的掃描方式是平移—旋轉(zhuǎn)(TR)方式和只旋轉(zhuǎn)(RO)方式兩種。只旋轉(zhuǎn)掃描方式無(wú)疑具有更高的射線利用效率，可以得到更快的成像速度；然而，平移—旋轉(zhuǎn)的掃描方式的偽像水平遠(yuǎn)低于只旋轉(zhuǎn)掃描方式；可以根據(jù)樣品大小方便地改變掃描參數(shù)(采樣數(shù)據(jù)密度和掃描范圍)，特別是檢測(cè)大尺寸樣品時(shí)其*性更加明顯；源—探測(cè)器距離可以較小，提高信號(hào)幅度；以及探測(cè)器通道少可以降低系統(tǒng)造價(jià)便于維護(hù)等在無(wú)損檢測(cè)中，如何選擇一臺(tái)工業(yè)CT機(jī)滿足使用要求是十分重要的?，F(xiàn)就工業(yè)CT應(yīng)具有的基本性能要求分述如下。...
查看更多2021-916
平板探測(cè)器是一種精密和貴重的設(shè)備，對(duì)成像質(zhì)量起著決定性的作用，熟悉探測(cè)器的性能指標(biāo)有助于提高成像質(zhì)量和減少X線輻射劑量。評(píng)價(jià)平板探測(cè)器成像質(zhì)量的性能指標(biāo)主要有兩個(gè):量子探測(cè)效率和空間分辨率。DQE決定了平板探測(cè)器對(duì)不同組織密度差異的分辨能力;而空間分辨率決定了對(duì)組織細(xì)微結(jié)構(gòu)的分辨能力?？疾霥QE和空間分辨率可以評(píng)估平板探測(cè)器的成像能力。在間接轉(zhuǎn)換的平板探測(cè)器中,影響DQE的因素主要有兩個(gè)方面:閃爍體的涂層和將可見(jiàn)光轉(zhuǎn)換成電信號(hào)的晶體管。首先閃爍體涂層的材料和工藝影響了X線轉(zhuǎn)換...
查看更多021-60711868
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